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PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
PVD镀膜设备常见的有多弧离子镀膜设备，直流磁控溅射镀膜设备，中频磁控溅射镀膜设备等.
该类型设备是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
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